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  • Poseidon ⅠGMP器具清洗機(jī)
    Poseidon ⅠGMP器具清洗機(jī)

    Poseidon Ⅰ全自動(dòng)GMP器具清洗機(jī)酸蒸清洗、純水潤(rùn)洗、烘干于一體,能夠安全清洗痕量分析中各種玻璃、石英、PFA、PTFE、TFM等器皿及ICP/MS的配件的無(wú)機(jī)元素殘留,有效降低離子本底,滿足痕量檢測(cè)的需求。

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  • IVC-100動(dòng)物房洗籠機(jī)
    IVC-100動(dòng)物房洗籠機(jī)

    動(dòng)物房洗籠機(jī)以軟化水作為工作介質(zhì),通過(guò)大流量的循環(huán)泵,將清洗艙內(nèi)的水在清洗管路中循環(huán),并通過(guò)噴淋臂噴淋籠盒,對(duì)物品進(jìn)行強(qiáng)有力的沖洗;設(shè)備的漂洗通過(guò)獨(dú)立水箱內(nèi)的干凈流水直接噴射到被清洗的籠盒上,達(dá)到最佳的漂洗效果。高溫純化漂洗水回收作為下一程序的清洗水,節(jié)約資源。

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  • Acide3000消解罐清洗機(jī)
    Acide3000消解罐清洗機(jī)

    Acide3000全自動(dòng)消解罐清洗機(jī)酸蒸清洗、純水潤(rùn)洗、烘干于一體,能夠安全清洗痕量分析中各種玻璃、石英、PFA、PTFE、TFM等器皿及ICP/MS的配件的無(wú)機(jī)元素殘留,有效降低離子本底,滿足痕量檢測(cè)的需求。

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  • Super-Genie G大流量EDI智能純水機(jī)
    Super-Genie G大流量EDI智能純水機(jī)

    大流量EDI智能純水機(jī)——智能型大流量純水工作站為一機(jī)兩水機(jī)型,專(zhuān)為現(xiàn)代實(shí)驗(yàn)室對(duì)純水品質(zhì)的高要求和應(yīng)用多樣化而設(shè)計(jì),可為單個(gè)或多個(gè)實(shí)驗(yàn)室供應(yīng)純水和超純水。通過(guò)主機(jī)可實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)純水系統(tǒng)及管路的運(yùn)行進(jìn)行監(jiān)控,產(chǎn)水穩(wěn)定可靠,是目前市場(chǎng)上集成度高的實(shí)驗(yàn)室大流量純水系統(tǒng)。

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  • Acide3000全自動(dòng)酸逆流清洗機(jī)
    Acide3000全自動(dòng)酸逆流清洗機(jī)

    Acide3000全自動(dòng)酸逆流清洗機(jī)酸蒸清洗、純水潤(rùn)洗、烘干于一體,能夠安全清洗痕量分析中各種玻璃、石英、PFA、PTFE、TFM等器皿及ICP/MS的配件的無(wú)機(jī)元素殘留,有效降低離子本底,滿足痕量檢測(cè)的需求。

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  • Q950D實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿清洗機(jī)
    Q950D實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿清洗機(jī)

    Q950D實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿清洗機(jī) 對(duì)實(shí)驗(yàn)室常用容量瓶、移液管、試管、三角瓶、錐形瓶、燒杯、量筒、廣口瓶以及小口徑盛放瓶等進(jìn)行清洗、消毒、烘干等清洗全自動(dòng)處理,清洗數(shù)據(jù)可記錄、追溯、查詢等

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  • Genie PURIST超純水系統(tǒng)
    Genie PURIST超純水系統(tǒng)

    超純水系統(tǒng)以純水(EDI 純水,RO 水或蒸餾水等)為進(jìn)水,制備實(shí)驗(yàn)室超純水。產(chǎn)水水質(zhì)達(dá)到或超過(guò)中國(guó)實(shí)驗(yàn)室用水標(biāo)準(zhǔn)和試驗(yàn)方法(GB6682-2008)及 ASTM、CLSI、ISO3696 的一級(jí)水的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。PURIST 超純水系列已獲得CE 及RoHS 認(rèn)證。

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  • Acide3000發(fā)酵罐清洗機(jī)
    Acide3000發(fā)酵罐清洗機(jī)

    Acide3000發(fā)酵罐清洗機(jī)酸蒸清洗、純水潤(rùn)洗、烘干于一體,能夠安全清洗痕量分析中各種玻璃、石英、PFA、PTFE、TFM等器皿及ICP/MS的配件的無(wú)機(jī)元素殘留,有效降低離子本底,滿足痕量檢測(cè)的需求。

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  • Poseidon ⅠGMP洗瓶機(jī)
    Poseidon ⅠGMP洗瓶機(jī)

    Poseidon Ⅰ全自動(dòng)GMP洗瓶機(jī)酸蒸清洗、純水潤(rùn)洗、烘干于一體,能夠安全清洗痕量分析中各種玻璃、石英、PFA、PTFE、TFM等器皿及ICP/MS的配件的無(wú)機(jī)元素殘留,有效降低離子本底,滿足痕量檢測(cè)的需求。

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